儀器設備管理人員：詹佳期先生
(TEL：03-5712121-55622、55616) 
儀器管理委員：趙天生 教授
 (TEL：03-5712121-31367)
儀器資訊:
1.廠牌型號: Picosun R-200
2.購置年限: 2018年
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓 A125 實驗室　(TEL：55616) 
4.功能:沉積Al2O3、HfO2、TiN、ZrO2、AlN、HfN薄膜
5.重要規格:
(1).可使用晶圓尺寸：破片至8吋
(2).雙腔體：Chamber A－介氧化物薄膜沉積，Chamber B－氮化物薄膜沉積
(3).可進行熱沉積(thermal deposition)及電漿輔助沉積(plasma-enhanced deposition)
(4).使用氣體：Ar、N2、O2、NH3、H2
6.儀器可使用之特殊製程材料
注意事項:
1.使用試片不得含有金、銀、銅、鐵和高分子材料。
2.請詳細說明基板晶片材質及其上含何種物質。
3.可進基板材質：Si、Ge、Sapphire、III-V、無鹼玻璃。
4.每件委託代工申請單以3個run或6個小時製程時間為限。
自行操作儀器:
1.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
(4).Picosun-ALD儀器操作規範&考核記錄表
3.有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:
(2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器:
1.有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
2.無國科會計畫者，請直接下載ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊:
1.貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
2.不足一小時以一小時計算。
3.Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
4.收費方式:
(1).自行操作:收取製作費+材料費
(2).委託操作:收取製作費+材料費+代工費
5.費用如下表:
(1).計畫定價:
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費(元/ 3個run或6個小時) 900 900 900
使用費 (元/時) 309 309 309
材料費 (元/10cycle) Al: 36    Hf: 46   Ti: 46   Zr: 46
(2).非計畫定價: 
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費(元/ 3個run或6個小時) 900 900 900
使用費 (元/時) 618 5150 5150
材料費 (元/10cycle)
(學校單位) Al: 72  Hf: 92   Ti: 92  Zr: 92
(研究單位/營利事業單位) Al: 360  Hf: 460  Ti: 460  Zr: 460
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690