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儀器管理委員：蘇俊榮 教授
(TEL：03-5712121-54261)
(TEL：thhou@nycu.edu.tw)
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儀器資訊:
1.廠牌型號: Yield Engineering Systems YES – 5
2.購置年限: 甲 : 1993年03月 乙 : 1996年04月
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓102實驗室 (TEL：55609)
4.功能:矽晶片或其它半導體晶片，塗光阻前處理，烘乾。上HMDS同時進行
5.重要規格:
(1).Heaters : 8 ~ 200 W
(2).High Capacity HMDS Flask
(3).Power Requirements : 115V，60HZ，15A
(4).Chamber Dimensions : 16″W X 16″D X 16″H
(5).Microprocessor Control
(6).Over-Temperature Shut-Off Setpoint 250℃
(7).Optional : Vacuum Pump
注意事項: 本儀器為雙面光罩對準曝光機(Double Side Mask Aligner)之附屬儀器，故無法單獨申請自行操作。