儀器設備管理人員：賴玟言 先生
(TEL：03-5712121-55668、55616)
儀器管理委員：林鴻志  教授
 (TEL：03-5712121-54193)
儀器資訊:
1.廠牌型號: Samco
2.購置年限: 1998年7月
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓 116實驗室 (TEL：55666) 
4.功能:成長SiO2及Si3N4等薄膜
5.重要規格: 
(1).可使用晶圓尺寸 : 破片至4吋
(2).單腔體 : Chamber溫度300°C
(3).使用的氣體包括：N2O、NH3、CF4、SiH4+Ar、N2等，可提供低溫之SiO2及Si3N4等薄膜沈積
6.儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器:
1.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
3.有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:
委託操作儀器:
1.有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載PECVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
2.無國科會計畫者，請直接下載PECVD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊:
1.貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
2.收費方式:
(1).自行操作: 收取開機費+製作費
(2).委託操作: 收取開機費+製作費+代工費
3.費用如下表:
(1).計畫定價:
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費(元/次) 900 900 900
開機費 (元/小時) 225 270 270
製作費 (元/小時)
沈積SiO2,Si3N4
 225 270 270
(2).非計畫定價: 
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費(元/次) 900 900 900
開機費 (元/小時) 450 2704 2704
製作費 (元/小時)
沈積SiO2,Si3N4
 450 2704 2704
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690