儀器設備管理人員：張鎮顯  先生 
(TEL：03-5712121-55657、55608)
儀器管理委員：鄭裕庭  教授
 (TEL：03-5712121-54169)
儀器資訊:
1.廠牌型號: 高敦科技股份有限公司
2.購置年限: 2009年4月
3.放置地點: 固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL：55608) 
4.功能:薄膜濺鍍
5.重要規格:
(1).人機界面
(2).3支6吋濺鍍陰極
(3).可放6片WAFER(6吋or4吋皆可，可自行分配，共6片)
(4).POWER: DC:2500W*2台與RF:1000W*1台
(5).氣體：MFC for Ar、N2與O2
(6).抽氣系統：RP + Cryo Pump
(7).可鍍多層膜
(8).基板載台轉速0~30rpm，可調控
(9).可升溫至300℃
6.儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器:
1.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
(4).Sputter (B)儀器操作規範&考核記錄表
3.有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:
(2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器:
1.有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
2.無國科會計畫者，請直接下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊:
1.貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
2.可擺4吋或6吋晶片共6片。
3.收費方式:
(1).自行操作:收取開機費+材料費
(2).委託操作:收取開機費+材料費+代工費
4.費用如下表:
(1).計畫定價:  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
 學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/次)
 900 900 900
開機費 (元/次) 600 900 900
材料費  (元/KA)  Ti=140   /  Ni=280   /   Ta=550   /  Hf=940
(2).非計畫定價:  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
 學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/次)
 900 900 900
開機費 (元/次) 1200 9000 9000
材料費  (元/KA)
(學校單位): Ti=280   /  Ni=560   /    Ta=1100   /  Hf=1880
(研究/營利事業單位): Ti=1400   /  Ni=2800   /   Ta=5500   /  Hf=9400
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690