儀器設備管理人員：倪月珍小姐 
(TEL：03-5712121-55668、55610)
儀器管理委員：劉柏村 教授
(TEL：03-5712121-52994)
儀器資訊:
1.廠牌型號: 森積  SJ-CA1200-D4
2.購置年限: 2012年12月
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓 131實驗室　(TEL：55616)   
4.功能:
(1).濕氧氧化、乾氧氧化(dry & wet oxidation)
(2).N型退火，去碳膜爐管
(3).SiO2 / Si，High-K / Si .Ge (Sintering)
(4).Forming gas(H2/N2)爐管
5.重要規格:
(1).加熱最高溫度1100°C
(2).加熱區長度900mm，爐管(chamber)口徑6″
(3).恆溫區600mm ±1℃於1000℃(三點測量)
(4).0~1100°C加熱時間2小時
6.儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器:
1.需已擁有Wet Bench使用權限才可申使用請氧化擴散系統。
2.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
(4).氧化擴散系統操作規範&考核記錄表
4.有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:
(2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
5.管理及使用辦法:
(1).爐管預約使用以四個小時為一個區段，可適用的爐管為Wet Oxidation、P+ Annealing 、N+ Annealing、Dry Oxidation等爐管。
(2).每個爐管其預約製程使用時間最多三個區段(三個區段)，同一爐管預約使用在一週內製程使用時間最多兩(含兩次)。
(3).預約方式：每週一起可預約當週及下週時段。
(4).預約取消突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約三小時之前取消預約登記，預約未做且未取消時段，其空出時段得由儀器設備管理人開放出來給其他使用者操作使用之。
(5).預約登記使用超過30分鐘未到者，視同預約取消，其時段得由其他使用者使用之。
(6).實驗做完應確實填寫使用記錄簿。 
委託操作儀器:
1.有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載氧化擴散系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
2.無國科會計畫者，請直接下載氧化擴散系統委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊:
1.貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
2.本中心規定最高溫度為1100oC，3″及4″晶片，一次最多25片。
3.不足一小時以一小時計算。
4.進入爐管之wafer，須先Clean，Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
5.收費方式:
(1).自行操作:收取開機費+製作費
(2).委託操作:收取開機費+製作費+代工費
6.費用如下表:
(1).計畫定價:
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/次) 900 900 900
開機費+製作費 (元/時) 165 230 230
(2).非計畫定價: 
學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/次) 900 900 900
開機費+製作費 (元/時) 330 2300 2300
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690