儀器設備管理人員：林聖欽先生 
(TEL：03-5712121-55668、55610)
儀器管理委員：劉柏村 教授
(TEL：03-5712121-52994)
儀器資訊:
1.廠牌型號: JANDEL  RM3000
2.購置年限: 2021年
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓 129實驗室　(TEL：55616)   
4.功能:適用前端製程快速高溫退火
5.重要規格:
(1).溫度顯示範圍：室溫~1000℃
(2).工作溫度 : 250℃~1000℃(目前開放最高操作溫度900℃,持溫時間5分鐘)
(3).升溫速率：10℃~100℃/秒(目前開放50℃/秒)
(4).控溫精準度:±1℃/(250℃~1000℃)
(5).發熱面:上/下層雙面輻射加熱
(6).適用晶片尺寸：破片~ 4”Si Wafer
(7).4”Wafer 控溫溫度偏差: ±3°C以內
(8).SiC載具
(9).純金鍍鏌冷壁式腔體
(10).熱源：快速紅外線燈管加熱 製程採氮氣
6.儀器可使用之特殊製程材料
注意事項:本設備需通過考核後使用。
自行操作儀器:
1.需已擁有Wet Bench使用權限才可申使用請快速退火系統。
2.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
4.有儀器使用權限後，使用時都需填寫使用記錄表登記。
委託操作儀器:目前以通過考核後自行操作為主。
收費資訊: 待定。
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690