1.無法自行操儀器作者,可由下列2種方式委託代工:
(1).有國科會計畫者,請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號,再下載下列委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人協助排程代工。
(2).無國科會計畫者,請直接下載下列委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人協助排程代工。
2.委託代工之費用可於儀器設備介紹中查詢,即有費用說明。
機台 | 委託代工申請單 | 委託代工申請單 | 儀器管理人 | |
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1 | 濕式工作台 (Wet Bench) | Word file | ODF file | 賴玟言 |
2 | 全光譜反射式膜厚量測儀 (Reflectometer) | Word file | ODF file | 賴玟言 |
3 | 低壓化學氣相沉積系統 (LPCVD) | Word file | ODF file | 賴玟言 |
4 | 圖形產生系統 (Pattern Generator) | Word file | ODF file | 蔡慶祥 |
5 | 雷射光罩製作系統 (Laser Pattern Generator, DWL-200) | Word file | ODF file | 柯明毅/蔡慶祥 |
6 | 雙面光罩對準曝光機 (Double Side Mask Aligner) | Word file | ODF file | 趙建允 |
7 | 負光阻顯影定影機&光阻塗佈機 | Word file | ODF file | 趙建允 |
8 | 探針式輪廓儀 (Dektak XT) | Word file | ODF file | 趙建允 |
9 | 複晶矽活性離子蝕刻系統 (Poly-Si RIE) | Word file | ODF file | 胡進章/李正維 |
10 | 介電薄膜活性離子蝕刻系統 (RIE) | Word file | ODF file | 胡進章/李正維 |
11 | 高密度活性離子蝕刻系統 (HDP-RIE) | Word file | ODF file | 胡進章/李正維 |
12 | 電漿輔助化學氣相沉積系統 (PECVD) | Word file | ODF file | 賴玟言 |
13 | 原子層化學氣相沉積系統 (ALD) | Word file | ODF file | 詹佳期 |
14 | 橢圓測試儀 (Ellipsometer) | Word file | ODF file | 詹佳期 |
15 | 氧化擴散系統 (Oxidation & Diffusion Furnaces ) | Word file | ODF file | 倪月珍 |
16 | 雙電子槍蒸鍍系統A (Dual E-Gun Evaporation System A) | Word file | ODF file | 倪月珍 |
17 | 雙電子槍蒸鍍系統B (Dual E-Gun Evaporation System B) | Word file | ODF file | 倪月珍 |
18 | 高真空鍍膜系統 (High Vacuum Deposition System) | Word file | ODF file | 倪月珍 |
19 | 熱阻絲蒸鍍系統 (Thermal Evaporation Coater) | Word file | ODF file | 倪月珍 |
20 | 真空濺鍍系統 (Sputtering System) | ODF file | 黃國華 | |
21 | 四點探針 (4-point Probe) | Word file | ODF file | 黃國華 |
22 | 聚焦離子束與電子束顯微系統 (FIB) | Word file | ODF file | 趙建允 |
23 | 冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器 (SEM SU-8010) | Word file | ODF file | 范秀蘭 |