儀器設備管理人員：胡進章 先生
(TEL：03-5712121-55607 / 55666)
儀器設備管理人員：李正維 先生
(TEL：03-5712121-55660 / 55666)
儀器管理委員：崔秉鉞 教授 
(TEL：03-5712121-31570)
儀器資訊:
1.廠牌型號: 日本SamCo公司製造 RIE200L
2.購置年限: 2002年12月1日
3.放置地點: 固態電子系統大樓 1樓116實驗室  (TEL：55666)
4.功能:蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料
5.重要規格:RF產生器最大可輸出300W，頻率13.56MHz，本蝕刻系統可通入CF4、O2、SF6、CHF3等氣體蝕刻二氧化矽、氮化矽等材料。
6.儀器可使用之特殊製程材料。
注意事項:
1.請詳細說明基板其上含何種物質(如SiO2、Si3N4、Metal、光阻等)。
2.蝕刻若無特別要求，一律按中心標準製程為之:
(1).SiOx : (RIE mode) 300 ~400 Å/min  100W,4Pa.
(2).SiNx : (RIE mode) 900~1000 Å/min   100W,4Pa.
3.晶片上不得有Ag, Au, Cu, Fe, Ni, Zn, LiNbO3, In, Pb, Sn, ITO等成份。
4.金屬不得露出。
自行操作儀器:
1.取得儀器使用權限說明:
(1).白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
(2).24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
(3).注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
(4).RIE 200L儀器操作規範&考核記錄表
3.有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用:
(2).奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器:
1.有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載RIE 200L委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
2.無國科會計畫者，請直接下載RIE 200L委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊:
1.貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
2.收費方式:
(1).自行操作:收取使用費
(2).委託操作:收取使用費+代工費
3.費用如下表:
(1).計畫定價:
 學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/2小時)
 900 900 900
使用費(元/時)
介電蝕刻(SiO2,SiNx)
 240 240 240
(2).非計畫定價: 
 學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (元/2小時)
 900 900 900
使用費(元/時)
介電蝕刻(SiO2,SiNx)
 2400 2600 2900
申訴電話:
1.徐忠璇小姐   TEL：03-5712121轉31534、31248，03-5131534 (Mail：jsshiu1207@nycu.edu.tw )
2.賴卓君小姐  TEL：03-5712121轉31775，03-5731775 (Mail：cclai0225@nycu.edu.tw)
3.專線電話： TEL：03-6116690